云南贵金属实验室申请一种高纯超低氧含量钌钽合金靶材及其制备方法专利

时间：2025-01-17 15:25:39 来源：CBC金属网

内容描述：2025年1月14日消息，国家知识产权局信息显示，云南贵金属实验室有限公司申请一项名为“一种高纯超低氧含量钌钽合金靶材及其制备方法”的专利。专利摘要显示，本发明公开了一种高纯超低氧含量钌钽合金靶材及其制备方法，属于磁控溅射合金靶材技术领域。本发明包括(1)混粉；(2)低压预压制；(3)高真空煅烧；(4)热等静压烧结；(5)打磨抛光。

2025年1月14日消息，国家知识产权局信息显示，云南贵金属实验室有限公司申请一项名为“一种高纯超低氧含量钌钽合金靶材及其制备方法”的专利。

专利摘要显示，本发明公开了一种高纯超低氧含量钌钽合金靶材及其制备方法，属于磁控溅射合金靶材技术领域。本发明包括(1)混粉；(2)低压预压制；(3)高真空煅烧；(4)热等静压烧结；(5)打磨抛光。通过本发明制备方法制备得到纯度≥99.995％、氧含量≤20ppm的钌钽合金靶材，使得钌钽合金靶材作为扩散阻挡层材料使用时，具备较低电阻，同时阻挡性能较为优异，从而提高扩散阻挡层薄膜性能。

标签：

钌钽贵金属

凡网站注明来源于CBC金属网的文章、图片、报告等原创作品，为非公开资料，仅供会员使用。未经本网许可，任何人不得转载或以其他方式使用本网站的原创内容。如需使用，请致电15333612035申请授权。CBC金属网保留对任何侵权行为和有悖原意的引用行为进行追究的权利。

免责声明：CBC金属网致力于打造全面权威的金属信息平台，努力为金属行业研究及从业者，提供全方位的数据信息服务和决策支持。但本网站信息仅供参考，不作为投资者决策的直接建议，任何依据网站信息进行的投资、买卖、运营等行为所产生的风险应自行承担，与CBC金属网无关。