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铜网> 铜技术知识手册> 提高铜间隙填充能力的电镀方法

提高铜间隙填充能力的电镀方法

关键字：
产　　品：
阴极铜
价　　格：
30元　我要购买
摘　　要：
本发明公开了一种提高铜间隙填充能力的电镀方法，包括：步骤1、制造种子层；步骤2、在电镀腔内充满硫酸铜溶液；将硅片固定于阴极，将铜块固定于阳极；步骤3、在阴极和阳极之间加一震荡电场；所述震荡电场为多个循环的方波周期，每个方波周期T依次被分为第一时段t1、第二时段t2和第三时段t3；在第一时段t1，方波的频率为f1；在第二时段t2，方波的频率为f2；在第三时段t3，方波的频率为f3，则满足：f1：f2：f3＝5：20：4。本发明震荡电场，使得镀铜的过程为，先沉积，再轻微刻蚀，最后再沉积，并反复这一过程的方法。这样增加了轻微的刻蚀过程，可以调整沉积过程中的不均匀部分，使之重新沉积，最后达到均匀沉积的目的。
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