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铜网> 铜技术知识手册> 一种择优取向可调谐的氧化亚铜薄膜的制备方法

一种择优取向可调谐的氧化亚铜薄膜的制备方法

关键字：
产　　品：
阴极铜
价　　格：
30元　我要购买
摘　　要：
本发明提供了一种择优取向可调谐的氧化亚铜薄膜的制备方法，其特征在于，包括：在室温下，直流反应磁控溅射设备中，以铜靶作为阴极溅射靶，以氩气作为溅射气体，氧气作为反应气体，石英基底作为阳极，在以一定速率自转的石英基底上溅射一定时间得到氧化亚铜薄膜。所述氧气和氩气的工作气压为10?2?10?1Pa；所述一段时间为5min；所述一定速率为5r/min；所述一定时间为5?30min。本发明方法制备的氧化亚铜薄膜具有单一相，择优取向明显，实现了制备氧化亚铜薄膜时(111)轴和(200)轴择优取向的可调谐转换。另外，本发明方法所制备的氧化亚铜薄膜沉积速率高、可控性强、附着性好，性能优异，尤其在异质结太阳能电池、光电器件等领域有潜在的应用价值。
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